Analys av prestationskrav förtitanmåli olika branscher
Gmail:alisa@jmyunti.com
I. Grundläggande prestandakrav för titanmål
① Renhet: Som en av de viktigaste prestandaindikatorerna för målmaterial har renhet en avgörande inverkan på prestandan hos tunna filmer. I praktiska tillämpningar varierar kraven på målrenhet från bransch till bransch. Till exempel, inom mikroelektronikindustrin, med den kontinuerliga ökningen av kiselskivans storlek och den kontinuerliga minskningen av ledningsbredden, ökar också kraven på målrenhet. Tidigare kunde 99,995 % målrenhet uppfylla processkraven för 0.35um IC, men nu kräver beredningen av 0.18um linjer att målrenheten når 99,999 % eller till och med 99,9999 %.
② Föroreningsinnehåll: Föroreningar i målfastämnet och syre och vattenånga i porerna är de huvudsakliga föroreningskällorna för avsatta filmer. Därför har mål för olika ändamål olika krav på föroreningsinnehåll. Till exempel har mål av rena aluminium och aluminiumlegeringar som används i halvledarindustrin särskilda krav på alkalimetallhalt och innehåll av radioaktiva grundämnen.
③ Densitet: För att minska porerna i målfastämnet och förbättra prestandan hos den sputtrade filmen, krävs vanligtvis att målet har en högre densitet. Målmaterialets täthet påverkar inte bara förstoftningshastigheten utan påverkar också filmens elektriska och optiska egenskaper. Dessutom kan en förbättring av densiteten och styrkan hos målmaterialet också göra att det bättre tål den termiska påfrestningen under förstoftningsprocessen. Därför är densitet också en av de viktigaste prestationsindikatorerna för målmaterialet.
④ Kornstorlek och kornstorleksfördelning: Målmaterialet är vanligtvis en polykristallin struktur, och kornstorleken kan variera från mikron till millimeter. För samma målmaterial är förstoftningshastigheten för ett mål med fina korn vanligtvis snabbare än för ett mål med grova korn; och tjockleksfördelningen av filmen som avsatts genom förstoftning av ett mål med en liten skillnad i kornstorlek (likformig fördelning) är mer enhetlig.
2. Renhetskrav för titanmål i olika branscher
① Titanmål som används i integrerade kretsar: Integrerade kretsar har extremt höga renhetskrav för titanmål, vanligtvis större än 99,995 % för att säkerställa filmens prestanda och stabilitet.
② Titanmål som används i platta bildskärmar: Plattskärmar inkluderar flytande kristallskärmar, plasmaskärmar, elektroluminiscerande bildskärmar och fältemissionsskärmar. Dessa skärmar använder ofta sputtering beläggningsteknik för att avsätta tunna filmer under tillverkningsprocessen. Bland dem behöver titanmål, som ett av de viktiga sputtermålen, vanligtvis ha en renhet som är större än 99,9 %. Dessutom kan titanmål också användas i stor utsträckning inom högteknologiska områden som elektronik, informationsindustri, heminredning och tillverkning av bilglas. I dessa industrier används titanmål främst för beläggning av integrerade kretsar, platta bildskärmar eller som dekoration och glasbeläggning. Genom att optimera prestanda och renhet hos titanmål kan olika industriers krav på filmprestanda och stabilitet uppfyllas.
Företag: Baoji Dynamic Trading Co., Ltd
Land: Kina
Lägg till: Baoti road, Jintai, Baoji city, Shaanxi, Kina
Cel:+86 18391896637(WHATSAPP)/18391894207
Gmail:alisa@jmyunti.com
Webbplats: www.jm-titanium.com
